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高分辨率是全自動化學發光成像系統重要的特性要求

發布時間:2022/1/17      點擊次數:104
  化學發光是物質在發生化學反應時產生的一種光輻射現象,根據其特性,在生物學領域中常被用來進行蛋白質與DNA的檢測?;瘜W發光成像系統相較具有高靈敏度、無材料損耗、自動曝光過程、電子圖片存檔等眾多優勢,但是,由于系統是依靠HRP或AP等特定的酶與底物結合來運作,因此所產生的光輻射比較微弱,相應的光信號的采集過程難度就大了不少。所以,想要獲取到如此微弱的化學發光,就需要配置性能較高的CCD相機。
  衡量CCD性能高低的指標,有分辨率、靈敏度、信噪比、動態范圍等,而化學發光成像系統就需要CCD具有以高分辨率、高靈敏度、低噪聲、寬動態范圍等為主要參數的基本特性。也就是說,想要通過化學發光成像系統獲取清晰的圖像并進行精準的分析的話,CCD在選擇上一定要滿足相關特性。
  高分辨率是全自動化學發光成像系統重要的特性要求,是指在一定單位時間內,所獲取的像素數目。而像素數目又是判定CCD好壞的重要指標,指的是CCD可以分辨到的最小感光元件,一般來說,像素越高,感光性越好,成像也就越清晰。但是,并不是像素數目多了,就一定是性能好的CCD,還要看像素的大小。這是因為如果大小不變,數目增多的話,其排列就會變得密集,那么像素之間就越容易出現電流干擾,產生電流噪點。
  噪點的出現、噪聲的干擾都會直接影響到圖像的成像質量,有效的調節像素尺寸與數量的關系就是防止噪聲出現的手段,因此,低噪聲也是非常重要的特性要求之一?;瘜W發光成像過程中的噪聲主要有讀出噪聲與熱噪聲兩種,對于讀出噪聲,就要求CCD在電路設計上多進行優化,而在熱噪聲的降低上,就對CCD的制冷有了一定的要求了。經實驗發現,曝光超過5-10秒時,CCD芯片就會開始發熱,如果芯片沒有制冷設備,白色的像素點就會遮蓋圖像,圖像成像后會出現雪花?;瘜W發光成像系統需要曝光的時間比較長,對制冷的要求更加的嚴格,所以,制冷CCD相機可以說是包括化學發光在內的所有分子成像分系統的發展趨勢。

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